提升产业链竞争力 中国掩模版迈向高世代
2009/7/1/08:04 来源：中国电子报深圳清溢光电股份有限公司常务副总经理 张沛
发展TFT-LCD掩模版产品，不仅能带动多项相关产业的发展，形成较为完整的产业链，而且可打破国外垄断局面，提高国产化配套能力，全面提升整机产品的品质和性能，大幅度降低整机制造成本，对推进我国液晶显示产业技术发展及终端应用产品的技术进步具有积极意义。
中国企业已掌握核心技术
TFT-LCD用掩模版也称光罩或MASK，是TFT-LCD制造过程中的图形转移工具或母版，它用于下游面板行业批量复制生产，主要应用于TFT-LCD黄光段阵列及彩色滤光片的曝光工艺。
清溢光电通过自主技术创新和体制创新，现已掌握第7代及第7代以下TFT-LCD用掩模版的10大核心技术，现正在规划购进和自研相关设备，建设第8代及以下掩模版生产线，为国内TFT-LCD产业的发展同步配套。
清溢光电掌握的10大核心技术包括：TFT-LCD掩模版设计和应用技术，第7代及以下TFT-LCD掩模版的光刻技术，CD误差可达到小于100nm的第7代及以下掩模版的显影/蚀刻技术，第7代及以下大面积重复性测量误差可达到小于10nm的测量系统设计能力，大面积二维尺寸测量小于90nm的测量应用技术，第7代及以下大面积LCVD修补系统设计和工艺控制技术；第7代及以下大面积保护膜贴膜系统设计和控制技术，第7代及以下大面积缺陷检查以及分析应用技术；符合ISO14644技术要求的1级净化建设、管理及保养技术，满足VC-D级的防微振系统控制技术。
清溢光电已经具备的第5代量产和第7代研发的成功经验，使清溢光电在2008年底占据国内大部分市场，为第8代TFT-LCD掩模版生产线奠定了技术基础。
高世代掩模版技术难度加大
第8代及第8代以下TFT-LCD用掩模版产品都是由石英玻璃基板、铬膜图形及保护膜(pellicle)构成。石英基板的尺寸从330mm×450mm到1220mm×1400mm，厚度从5mm到13mm，铬膜厚度为0.1μm，图形关键尺寸在4μm左右，各项技术指标精度要求均为亚微米级，保护膜框高度为5.9mm左右，保护膜厚度为4μm。
清溢光电自2006年10月研制成功TFT-LCD彩色滤光片用大尺寸掩模版之后，2007年8月又成功开发出第5代TFT-LCD阵列用掩模版产品并实现量产，掩模版规格为800mm×520mm×8mm，栅格尺寸为25nm。与第5代产品相比，第8代TFT-LCD用掩模版面积尺寸更大，无论从产品技术还是生产工艺来看，第8代TFT-LCD用掩模版都处于国内本行业的最高技术水平。
从表面上看，第8代和第5代掩模版的精度要求相当，但8代掩模版尺寸为1220mm×1400mm，面积特别大，达到1.7m2，是第5代掩模版面积的4.1倍，因此实现同等的技术指标的难度系数要大很多，这在CD精度、TP精度、缺陷等三大技术指标上都有所体现。
从CD精度来看，第8代掩模版面积约为第5代掩模版面积的4倍，但图形关键尺寸的绝对精度误差指标仍为小于±0.35μm，面积增大之后，CD精度要满足要求，其工艺难度就随之增大。
