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美国开发出1nm制程技术与设备 但短期内不易进入量产阶段

http://www.ec.hc360.com2017年05月04日15:44 来源:technews T|T

    晶圆代工大厂包括台积电、英特尔、三星等公司在2017年陆续将制程进入10奈米阶段,而且准备在2018年进入7奈米制程试产,甚至2020年还将要推出5奈米制程技术。因此,随着制程技术的提升,半导体制程也越来越逼近极限,制造难度也越来越大。就以5奈米之后的制程来说,到目前为止都没有明确的结论。对此,美国布鲁克海文国家实验室(BrookhavenNationalLaboratory,简称BNL)研究人员日前宣布,开发出可以达成1奈米制程的相关技术与设备。

    根据外电报导,美国能源部旗下的布鲁克海文国家实验室研究人员,日前宣布成功采用电子印刷技术,成功制造了尺寸只有1奈米的印刷设备。据了解,这个实验室的研究人员采用电子显微镜,制造出比普通电子束印刷(EBL)技术能做出的更小尺寸。这使电子敏感性材料在聚焦电子束的作用下,尺寸得以大大缩小,达到可操纵单个原子的程度。而这项技术与设备的诞生,则可极大的改变材料特性,从导电变成光传输,或这两种状态下交互执行。

    就目前发表的内容观察,1奈米印刷使用的是扫描投射电子显微镜(STEM),隔开11奈米,这样一来每平方公厘就能实现1兆个特征点(features)的密度。再透过偏差修正STEM在5奈米半栅极在氢氧硅酸盐类抗蚀剂下,实现2奈米的分辨率。

    虽然,这也不是科学家第一次达到1奈米级别的技术,2016年美国能源部下属的另一个国家实验室也宣布发展出1奈米制程技术。这部分使用的是奈米碳管和二硫化钼等新材料。不过,不管是哪一边开发出的新技术与设备,就目前观察,这项技术都不会很快量产。因为奈米碳管晶体管跟PMMA、电子束光刻一样,跟目前的半导体制程技术有明显差异。因此,要让厂商一下子全部淘汰现有设备,这还需要一段时间布局。​​​​

责任编辑:张雨薇

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