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SK集团加速半导体垂直整合 SK Innovation开发半导体材料

http://www.ec.hc360.com2017年06月27日11:02 来源:DIGITIMEST|T

    SK集团(SK Group)在接连购并OCI Materials与乐金Siltron(LG Siltron)之后,子公司SK Innovation也将发展半导体材料事业,加速以SK海力士(SK Hynix)为主轴的材料、零组件事业垂直整合。

    据韩媒ETNews报导,业界消息表示,SK Innovation以对SK海力士供应产品为目的,正从事光阻剂(Photoresist)研发。近期SK Innovation已将少量光阻剂样品交给SK海力士进行测试,后续经由意见回馈改善品质后,朝向量产目标迈进。

    光阻剂用在硅晶圆的曝光制程,与通过光罩的光作用形成电路图形。曝光设备与材料依照曝光波长分为G-line、I-line、KrF、ArF与极紫外光(EUV)等多种方式,其中以极紫外光最为先进。

    SK Innovation开发的是用在生产3DNANDFlash的KrF光阻剂,涂布在晶圆上时必须形成10?以上的厚膜,之后才能顺利将存储器单元(Cell)堆叠成垂直构造。

    ArF与极紫外光的光阻剂材料市场主要由信越化学(Shin-Etsu Chemical)、住友化学(Sumitomo Chemical)、东京应化工业(TOK)、JSR等日本业者掌握;南韩东进世美肯(Dongjin Semichem)与德国默克(Merck)供应技术难易度相对较低的3DNANDFlashKrF光阻剂。

    SK Innovation表示,公司从2年前开始着手研发光阻剂等电子材料,希望能以石油、润滑油领域累积的技术能量,也在特殊化学材料市场取得斩获。

    SK集团在将海力士纳入旗下后,开始以购并策略强化半导体材料、零组件事业能量。2016年1月买下半导体特殊气体业者OCI Materials并更名为SK Materials。

    SK Materials生产三氟化氮(NF3),用来清除半导体机台腔体内的残留物质,全球市占率第一。2016年SK Materials先后与日本Tri Chemical Laboratories及昭和电工(Showa Denko)合资成立子公司SK Tri Chem、SK Showa Denko。

    SK Tri Chem生产锆(Zr)系前驱体(Precursor)高介电(High-K)蒸镀材料;SK Showa Denko生产蚀刻气体三氟甲烷(CH3F)。这两项材料都将对SK海力士供应。

    2017年初SK集团再度向乐金集团(LG Group)购买硅晶圆公司乐金Siltron过半数股权。先前SK海力士分别向信越化学、Sumco、Sun Edison Semiconductor、Siltronic及乐金Siltron等5家供应商采购硅晶圆,未来应会增加对乐金Siltron的采购量。

    业界表示,2015年SK集团会长崔泰源订定2020年集团营收目标200兆韩元(约1,779亿美元),并选定多项领域作为新树种事业培育,其中规模最大的就是半导体及相关材料与零组件事业。之后SK集团主要子公司纷纷投入相关研发,如SKC的子公司SKC Solmics正在开发光罩基底(Mask Blank)。

    日本Hoya、成膜光电(Ulcoat)是光罩基底市场主要供应商,南韩业者S&STech也自主研发,将产品往海外市场销售。SKC Solmics若能成功将光罩基底带入商用化,未来可望大幅提高营收。

    SK Innovation对开发3D NAND Flash的KrF光阻剂传闻表示,光阻剂等各种电子材料化学产品都还在开发阶段,是否进行量产还需经过审慎评估才能确定。

责任编辑:朱婧芸

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