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优化纳米设计的90纳米设计参考流程
hc360慧聪网电子行业频道 2004-06-21 16:45:35

 

    Cadence设计系统公司日前宣布其一个合格的设计参考流程通过了可用性验证,该参考流程可与IBM-Chartered 90纳米工艺平台兼容。 
    
    Cadence设计参考流程可与由Artisan公司为IBM-Chartered跨平台设计合作计划(design enablement program)提供的知识产权(IP)无缝结合。在同IBM公司的共同开发下,基于Cadence Encounter数字IC设计平台的RTL-to-GDSII设计参考流程在整个设计链中都实现了优化。它为芯片设计师们完成从RTL到硅晶片(first-pass silicon)的系统级芯片(SoC)设计提供了可预测的途径。 
    
    该设计参考流程融合了Cadence当前的主流技术,包括Encounter RTL Compiler全局综合器、Encounter Test解决方案以及NanoRoute统一布线及物理优化技术。该共同开发的设计参考流程使用了以布线为中心的方法,解决了关键的90纳米SoC问题(包括低能耗设计、信号完整性以及测试设计等各个方面)并实现了较高的硅质量(QoS)。QoS使用布线来衡量一个设计的物理特征,包括改进的面积利用率、更高的性能以及更低的能耗。 
    
    Cadence同时提供90纳米设计参考流程工具包。
   
 

信息来源:中华电路板资讯网 
 
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